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太阳能电池工艺设备

2016-08-30 15:31:15 click: 717

产品系列

晶圆尺寸

产品描述

LS-200A-S

≤ 8

太阳能电池掺杂PECVD机,淀积大面积氮化硅、氧化硅、非晶硅等(掺杂型)薄膜

LCCP-6A

≤ 6

全自动反应离子刻蚀机(CCP),可刻蚀氮化硅、氧化硅、硅等

LICP-200F

≤ 8

感应耦合等离子体( ICP)刻蚀机,可用氟基气体,刻蚀氮化硅、氧化硅、硅、锗、硅基化合物材料及WMoTa等部分金属

LICP-200Cl

≤ 8

感应耦合等离子( ICP)体刻蚀机,可用氯基、氟基气体,刻蚀蓝宝石、氮化镓、砷化镓、硅、氮化硅、氧化硅等材料以及各种金属