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LTANK-200型单槽槽式湿法清洗机

设备简介

1. 全套自动化的RCA清洗

机台可以实现全套类RCA清洗(效果一样)的工艺自动化,而且根据不同清洗需求,所需工艺可以在菜单里拆分编辑,如SC1+兆声清洗等。

2. 紧凑型批量生产机台

保证工艺质量的前提下,在同一个工艺槽上可以实现湿法腐蚀、清洗、冲水及干燥等工艺,所以大大减少机台站地面积,特别适合中小型晶圆加工厂。

3. 集成非机械式干燥系统

机台内部集成一套非机械式干燥系统,可以干燥不同表面性质的晶圆,如亲水、疏水或者混搭表面,所以实现晶圆干进干出的同时不会留下水痕。

4. 兼容4”/6”/8”不同大小、不同厚度的晶圆

定制的承片架实现4/6/8寸不同大小的清洗,而且也可以清洗、干燥减薄过的晶圆配合非机械式干燥,避免碎片等问题。

5. 氧化硅斜向梯度腐蚀

机台可以实现氧化硅等介质材料的斜向梯度腐蚀。

6. 独立排风

工艺过程中,酸、碱和有机排风自动切换,杜绝结晶、易燃易爆等风险。

机台构造

l工艺槽:单槽可以实现腐蚀、清洗、冲水及干燥工艺;

l臭氧水:臭氧溶解于纯水;

l稀氢氟酸:浓氢氟酸稀释于纯水;

l一号清洗液:氨水、双氧水和纯水的混合液;

l二号清洗液:盐酸、双氧水和纯水的混合液;

机台及工艺质量

A. 湿法刻蚀速率及刻蚀非均匀性

 

B. 清洗颗粒增加

 

C. 金属沾污测试