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LSPIN-200型单片半自动湿法清洗、腐蚀机

设备介绍

1. 单面清洗、腐蚀

晶圆可以选择正面或者背面做清洗、腐蚀,化学液同时只能处理一面,在腐蚀、清洗过程中另一面被氮气气体保护不被影响。

2. 化学液循环使用

机台可选至少一路化学液循环使用,相比槽式批量清洗机配液量相对较少,从而减少化学液使用及排放。

3. 兼容4”/6”/8”晶圆或者部分晶圆

定制的夹片具(chuck可以处理不同尺寸的晶圆整片或者晶圆的一部分。

4. 集成干燥系统

机台内部集成一套旋转喷氮气干燥系统,简单而有效,所以实现晶圆干进干出的同时不会留下水痕。


机台构造

l夹片具腐蚀、清洗及冲水干燥时固定晶圆整片或者部分晶圆的装置,在处理过程中晶圆另一面被氮气保护住,不被影响;

l化学液供液系统:化学液供液系统是为单片清洗机提供化学液,以及收回、循环化学液;

机台及工艺质量

A. 湿法刻蚀速率及刻蚀非均匀性



B. 清洗颗粒增加



C. 金属沾污测试