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LICP-200Cl型全自动ICP刻蚀机

系统简介

鲁汶仪器生产的LICP-200Cl型全自动ICP刻蚀机容许通Cl基和F基气体、是一台可刻蚀各种金属、非金属和半导体材料,功能极其强大的高性能刻蚀机。

不仅具有刻蚀速率高、刻蚀精度高、刻蚀选择比高等优点,而且具有耐腐蚀性强、刻蚀材料覆盖范围广的特点。是刻蚀功能最全的高精度先进微细加工工具。

具有load-lock送片室和机械臂,在取片、送片时反应室不暴露于大气,避免了Cl基气体对机器的腐蚀和对人体的伤害。

既可通F基气体刻蚀SiSiO2SiNPoly-SiSiCGeWMoTa、氧化铪、钛酸铋、铌酸锂、石英等材料,又可通Cl基气体刻蚀AlTiCrGaAsGaN等材料。还具有刻蚀纳米线条的能力。

刻蚀工艺全自动,软件中含主要刻蚀材料的推荐工艺菜单,操作简单,重复性好。


机器性能

1、可刻蚀最细刻蚀线宽≤20nm

2、刻蚀均匀性:≤±5%


标准机型主要配置

1、阳极氧化铝腔室;

2、气路系统、数字流量计为8路,可定制增减。

3、抗Cl气腐蚀的分子泵、机械泵高真空机组;

4、激励射频电源带自动匹配器;

5偏压射频电源带自动匹配器;

6、数字真空计和压力开关;

7、带触摸屏工控计算机,有严格的检漏、互锁、报警安全措施

8、具有He背冷系统,可冷却加工基片。