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LICP-200F型全自动ICP刻蚀机

系统简介

鲁汶仪器生产的LICP-200F型全自动ICP刻蚀机是一台实验室用高性能刻蚀机。

具有刻蚀速率高、刻蚀精度高、刻蚀选择比高等一系列优点,已成为目前高精度微细加工必不可少的先进工具。广泛应用于微电子、光电子、半导体、微机械、纳米器件、石墨烯等领域的微细加工。

它可通F基气体刻蚀SiSiO2SiNPoly-SiSiCGeWMoTa钛酸铋、铌酸锂、石英等。

除了可进行常规图形的刻蚀加工之外,还具有刻蚀纳米图形的能力。

刻蚀工艺全自动,软件中包含刻蚀材料的推荐工艺菜单,操作简单,重复性好,经久耐用。


刻蚀性能

1、最细刻蚀线宽≤100nm

2、刻蚀均匀性:≤±5%

3样品大小:8寸。


标准机型主要配置

1、阳极氧化铝腔室;

2、分子泵、机械泵高真空机组;

3、激励射频电源带自动匹配器;

4、偏压射频电源带自动匹配器;

5、数字真空计和压力开关;

6、气路系统、数字流量计,可定制增减;

7、调压阀、高阀、低阀;

8、带触摸屏集成工控计算机,有严格的检漏、互锁、报警安全措施

9、具有He背冷系统,可冷却加工基片。